EUV光刻机耗能巨大 芯片制造商生产与节能减排难并重

EUV光刻机体现着更先进芯片的制造过程正变得复杂和能源密集。ASML当前每台EUV的额定耗电量约为1百万瓦，约为前几代设备的10倍，但由于没有替代品来制造最先进的半导体，芯片行业可能成为减少全球碳排放的重要绊脚石。

台积电为业界拥有最多EUV光刻机的公司，公司目前已有超过80台EUV，新一代设备还在安装中。预计到2025年，仅台积电一家公司就将占全中国台湾省整体能源消耗的12.5%，远高于2020年时的6%。

除台积电外，另一储存芯片制造大厂美光科技计划在位于中国台湾的工厂使用至少一台EUV光刻机。据彭博分析师CharlesShum称，在三年内，中国台湾代工厂中四分之一的芯片制造将使用EUV光刻机。

对于芯片制造的能源消耗问题，环保组织绿色和平（Greenpeace）气候能源项目主任郑楚忻曾表示，缺电必然发生，其他行业将受其牵连。比利时微电子研究中心（Imec）Lars-AkeRagnarsson指出，在使用高耗能设备的芯片厂，再生能源变得紧急且必要。

彭博社提出，芯片制造对环境的影响将取决于用电来源。据悉，台积电高度仰赖化石燃料。2016年，中国台湾当局制定目标，即到2025年实现20%的电力来自可再生能源，但其7月发布的最新能源评估显示，截至2021年底，其电力只有6%来自可再生能源。

韩国芯片制造巨头三星也面临着类似的能源消耗问题。三星在韩国拥有六个半导体制造基地，2021年占其功耗的3%。为了争取更多的客户订单来和台积电竞争，三星正在扩大对EUV的使用。该公司未公开说明拥有机器的数量。6月初，三星集团负责人JayLee前往荷兰与ASML达成新的交易。

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